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“我们想尽可能地提供最佳体验这就是为什么我们将游戏推回2022年3月31日。谢谢您的耐心配合。这几乎就在那里。”
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约翰逊指出，“我认为中国也非常想发展自己的EUV(极紫外光刻)能力和相关的生态系统(比如EUV光刻胶)。但坦率地说，我认为他们要做到这一点非常困难。” 实际上，荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)CEO温彼得也在今年1月表达过和约翰逊类似的观点，认为“中国不太可能复制出顶尖的EUV光刻机”。但他当时补充称，永远别那么绝对，中国的物理定律和全世界是一样的，“他们肯定会尝试”。 另外，对于中国在光刻胶领域的追赶，以及希望在高端光刻胶技术上的突破，约翰逊认为，即便中国获得相关化学成分的确切资料，但在纯度、精度及制造上都非常困难，且中国也没有供应链支持。但中国当前积极投资成熟的芯片技术，也是不容忽视的一部分，“人们还没充分意识到，中国有多少机会可以不依赖这些先进制程。” 资料显示，JSR公司成立于1957年，中文名为日本合成橡胶，是全球主要的光刻胶供应商之一。在应用方面，光刻胶是半导体、液晶面板(LCD)、印刷电路板(PCB) 等产业的重要原材料。 在半导体领域，目前光刻机曝光光源一共有六种，分别是紫外全谱(300～450nm)、 G 线(436nm)、 I 线(365nm)、深紫外(DUV，包括 248nm 和 193nm)和极紫外(EUV)，相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生，对应分别为，G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF光刻胶、 ArF光刻胶、EUV光刻胶。 目前，在全球半导体光刻胶领域，主要被日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、美国杜邦、日本信越化学、富士电子、罗门哈斯等头部厂商所垄断，其中JSR占据了28%的市场。 而在高端半导体光刻胶市场上，JSR在ArF光刻胶领域以24%的市场份额位居全球第一。在EUV光刻胶方面，TOK和JSR有较高的份额。 从国内的光刻胶市场来看，低端的中g线/i线光刻胶自给率约为20%，KrF光刻胶自给率不足5%，而高端的ArF光刻胶完全依赖进口，是国内半导体的卡脖子技术之一。
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